안녕하세요.

Remote plasma source에 대해 질문 드립니다!

 

Cleaning을 위한 Remote plasma source에 사용되는

 

전원회로의 주파수가 주로 400kHz인 이유가 있을까요?

 

400kHz를 썼을 때 어떤 특성이 좋아지는건가요?

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [335] 103850
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24754
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61642
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73575
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 106095
153 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 458
152 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 651
151 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [Matcher 기능] [2] 964
150 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 678
149 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상] [1] 565
148 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응] [1] 704
» Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해] [1] 1663
146 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 484
145 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 1262
144 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [질소 플라즈마] [1] 1014
143 반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술] [1] 1287
142 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정] [1] 942
141 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 867
140 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1936
139 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 2050
138 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 931
137 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 858
136 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1830
135 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 854
134 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning] [1] file 1793

Boards


XE Login