안녕하세요.

Remote plasma source에 대해 질문 드립니다!

 

Cleaning을 위한 Remote plasma source에 사용되는

 

전원회로의 주파수가 주로 400kHz인 이유가 있을까요?

 

400kHz를 썼을 때 어떤 특성이 좋아지는건가요?

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [293] 77379
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20518
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57452
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68983
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93008
126 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] 16060
125 ICP TORCH의 냉각방법 15926
124 In-flight plasma process 15516
123 remote plasma 데미지 질문 [1] 14517
122 냉각수에 의한 Power Leak 14454
121 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11810
120 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10418
119 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 9849
118 수중 방전 관련 질문입니다. [1] 9693
117 대기압 플라즈마에 대해서 9665
116 수중플라즈마에 대해 [1] 8791
115 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8655
114 Microwave 장비 관련 질문 [1] 8594
113 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 8167
112 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7683
111 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6737
110 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6414
109 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6382
108 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6137
107 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5458

Boards


XE Login