안녕하세요, 교수님.

현재 반도체 업체에서 근무중인 엔지니어입니다.

현재 Clean 조건은 High pressure 및 Low pressure Clean을 사용하고 있습니다.

혹시 High Pressure Clean 진행 간 Showerhead와 Heater간 간격이 조금 더 넓어지면 Clean 효율에 문제가 있을까요?
 Ex) 10mm → 13mm

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76888
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20285
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92713
162 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 58
» Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 76
160 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 30
159 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 98
158 skin depth에 대한 이해 [1] 177
157 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 124
156 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 123
155 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 202
154 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 157
153 ICP에서 전자의 가속 [1] 169
152 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 190
151 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 199
150 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 95
149 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 330
148 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 372
147 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 623
146 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 257
145 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 713
144 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 630
143 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 717

Boards


XE Login