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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력
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170 |
동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문
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liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다.
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168 |
챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP]
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167 |
ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias]
[1] | 421 |
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166 |
micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장]
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165 |
Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파]
[1] | 171 |
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164 |
CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching]
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163 |
Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어]
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162 |
Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다.
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161 |
Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해]
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160 |
DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown]
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159 |
RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해]
[1] | 282 |
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158 |
skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해]
[1] | 521 |
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157 |
Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해]
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156 |
반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가]
[2] | 276 |
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155 |
ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential]
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CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고]
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ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해]
[1] | 339 |
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152 |
CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정]
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