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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해]
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CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정]
[2]  | 621 |
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파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [Matcher 기능]
[2] | 912 |
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RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭]
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플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상]
[1] | 544 |
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ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응]
[1] | 682 |
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147 |
Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해]
[1] | 1600 |
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대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해]
[1] | 470 |
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주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating]
[1] | 1216 |
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144 |
N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [질소 플라즈마]
[1] | 989 |
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143 |
반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술]
[1] | 1219 |
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안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정]
[1] | 906 |
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챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction]
[1] | 850 |
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PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable]
[1] | 1874 |
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ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
[1] | 2018 |
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CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision]
[1] | 894 |
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전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source]
[1] | 836 |
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전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation]
[1] | 1764 |
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135 |
plasma striation 관련 문의 [Plasma striation]
[1] | 842 |
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134 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning]
[1] | 1715 |
