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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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133 |
Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas]
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CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion]
[1]  | 1494 |
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131 |
방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [플라즈마 응용기술]
[1] | 1133 |
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130 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp]
[1] | 8857 |
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129 |
N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]
[1] | 2136 |
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연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring]
[1] | 936 |
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127 |
ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정]
[1] | 1323 |
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126 |
Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet]
[1] | 1265 |
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125 |
plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수]
[1] | 2137 |
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124 |
ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델]
[1] | 1028 |
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123 |
RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect]
[1] | 3036 |
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122 |
CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전]
[3] | 4340 |
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121 |
RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리]
[1] | 1247 |
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120 |
CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선]
[1] | 2884 |
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119 |
anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘]
[1] | 1557 |
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118 |
라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수]
[1] | 1190 |
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117 |
PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단]
[1] | 2161 |
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116 |
PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [소수/친수성 조절 연구]
[1] | 3652 |
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115 |
CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias]
[1] | 1478 |
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114 |
플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건]
[2] | 1774 |
