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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield]
[1] | 2082 |
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ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도]
[1] | 2028 |
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Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적]
[1] | 1991 |
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ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS]
[2] | 1153 |
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연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술]
[1] | 2017 |
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좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도]
[2] | 17236 |
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교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode]
[2] | 2762 |
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안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수]
[2] | 2830 |
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챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건]
[3] | 6095 |
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104 |
CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss]
[3] | 4689 |
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103 |
H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field]
[1] | 700 |
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RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma]
[1] | 2946 |
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remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown]
[1] | 15028 |
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100 |
RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage]
[3] | 2467 |
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Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance]
[1] | 2110 |
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98 |
산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD]
[1] | 1501 |
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97 |
ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity]
[1] | 3244 |
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Plasma Dechuck Process가 궁금합니다.
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HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정]
[1] | 1494 |
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94 |
Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리]
[1] | 1284 |
