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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68893
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44 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6373
43 수중플라즈마에 대해 [1] 8772
42 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 8156
41 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24422
40 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] 20315
39 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24379
38 대기압 플라즈마 40721
37 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] 16053
36 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23428
35 surface wave plasma 에 대해서 [1] 18559
34 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23279
33 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] 21522
32 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24994
31 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] 18882
30 glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 21781
29 대기압플라즈마를 이용한 세정장치 21550
28 대기압 상태의 플라즈마 측정 19735
27 Lissajous figure에 대하여.. 20633
26 RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 95832
25 Plasma source type 79723

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