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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72422
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 103151
29 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 658
28 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 431
27 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 340
26 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 536
25 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 1135
24 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 853
23 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 806
22 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1336
21 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 7554
20 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 829
19 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4116
18 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 1140
17 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2727
16 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1384
15 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 1062
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1972
13 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1336
12 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] 16950
11 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1870
10 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1352
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