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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [284] 77284
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20486
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57404
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68931
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92985
28 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 129
27 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 146
26 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 232
25 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 786
24 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 607
23 plasma striation 관련 문의 [1] file 503
22 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 1049
21 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5365
20 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 605
19 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3618
18 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 894
17 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2344
16 anode sheath 질문드립니다. [1] 1038
15 라디컬의 재결합 방지 [1] 829
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1536
13 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 1017
12 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16687
11 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1372
10 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1092
9 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19803
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