번호 | 제목 | 조회 수 |
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공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77138 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20425 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57335 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68873 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92897 |
8 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16517 |
7 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16673 |
6 | capacitively/inductively coupled plasma | 17823 |
5 | RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] | 18881 |
4 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19793 |
3 | CCP/ICP , E/H mode | 23091 |
2 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23113 |
1 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23278 |