번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [327] 97852
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23802
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60482
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72331
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 102873
29 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 647
28 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 424
27 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 338
26 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 531
25 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 1129
24 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 850
23 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 804
22 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1327
21 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 7514
20 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 824
19 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4109
18 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 1134
17 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2719
16 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1382
15 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 1057
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1970
13 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1333
12 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] 16944
11 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1862
10 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1346
쓰기
태그

Boards

XE Login