ICP 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다.
2020.08.21 15:03
저는 광학박막 분야에서 sputter 장비를 이용하여 간섭필터를 코팅하고 있습니다.
sputter에 ICP를 같이 사용하여 기판에 증착된 Si와 반응가스를 결합시키는 용도로 사용하고 있습니다.
ICP코일 앞에 위치한 Quartz 표면에서 식각된 것 같은 모양새를 보여 원인분석에 있습니다.
질문1. ICP 쪽에 Self bias로 인해 Quartz가 식각되는 현상이 발생될 수 있는지 궁금합니다
질문2. Ar과 함께 들어가는 반응가스로 O2를 사용했을 때와 H2를 사용했을 때 ICP 쪽과 기판 쪽에서 어떤 현상들이 생기는지 궁금합니다
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77169 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20450 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57349 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68888 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92922 |
30 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 184 |
29 | CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] | 192 |
28 | skin depth에 대한 이해 [1] | 217 |
27 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 242 |
26 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 725 |
25 | ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] | 854 |
24 | 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] | 1144 |
23 | 공정플라즈마 [1] | 1168 |
22 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1403 |
21 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1497 |
20 | 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] | 1531 |
19 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1640 |
18 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1677 |
17 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1685 |
16 | 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] | 1913 |
15 | 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] | 1997 |
14 | 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] | 2361 |
13 | RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] | 2390 |
12 | Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] | 2397 |
» | 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] | 2503 |