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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다
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skin depth에 대한 이해
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ICP에서의 Self bias 효과
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CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다.
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ICP에서 전자의 가속
[1] | 184 |
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ICP lower power 와 RF bias
[1] | 1497 |
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전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스)
[1] | 1145 |
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ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다.
[1] | 854 |
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ICP 대기압 플라즈마 분석
[1] | 725 |
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RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계
[1] | 2390 |
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안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다.
[1] | 1685 |
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ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!!
[1] | 1404 |
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연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생
[1] | 1531 |
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교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
[2] | 2361 |
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안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다.
[2] | 2503 |
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CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다.
[3] | 3838 |
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ICP reflecot power 관련 질문드립니다.
[1] | 1640 |
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Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다.
[1] | 2397 |
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공정플라즈마
[1] | 1168 |
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안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다!
[1] | 1997 |
