ICP Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance]
2018.12.21 07:56
안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.
플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,
Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,
O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.
튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데
매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다.
주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,
혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?
감사합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] | 102278 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 24592 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 61249 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 73338 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 105568 |
| 13 | 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] | 1463 |
| 12 | 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] | 2403 |
| » | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] | 1963 |
| 10 | 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] | 2128 |
| 9 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [Sheath model과 bias] [3] | 24919 |
| 8 | glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 | 21923 |
| 7 | 플라즈마가 불안정한대요.. [압력과 전력 조절] | 24655 |
| 6 | No. of antenna coil turns for ICP [안테나 turn 수와 플라즈마 발생 효율] | 23324 |
| 5 | ICP TORCH의 냉각방법 [냉각수와 와류] | 16014 |
| 4 | ccp-icp | 21946 |
| 3 |
F/S (Faraday Shield)
 | 21836 |
| 2 | 플라즈마의 발생과 ICP | 22323 |
| 1 | ICP 플라즈마에 관해서 [2] | 32580 |
ICP는 antenna를 통해 RF power가 전달되고, CCP는 마주보고 있는 electrode를 통해서 전달되지요. 전기적으로 보면 antenna는 inductor로 가정이 될 수 있고, 평판형 전극은 capacitor로 가정할 수가 있습니다. 따라서 matcher는 inductor의 load impedance 혹은 capacitor의 load impedance 차이가 됩니다. 두 임피던스의 특성은 RF에 대해서 반비례하는 성질을 갖고 있으니, matcher가 정합하는 기능이 차이가 생길 수 밖에 없겠지요. 대부분 matcher의 회로를 변경해서 사용하며, 상세한 내용은 Lieberman의 principles of plasma discharges and material processing 의 내용을 참고하시면 되겠습니다. 일부 정합기에 대한 설명은 본 계시판에도 수록이 되어 있으니 참고하세요.