|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[327]
| 97983 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 23830 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 60503 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 72363 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 102957 |
|
33 |
ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias]
[1] | 548 |
|
32 |
micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장]
[1] | 510 |
|
31 |
Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어]
[1] | 283 |
|
30 |
skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해]
[1] | 659 |
|
29 |
ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential]
[1] | 713 |
|
28 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고]
[1]  | 579 |
|
27 |
ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해]
[1] | 406 |
|
26 |
ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
[1] | 1946 |
|
25 |
전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation]
[1] | 1677 |
|
24 |
ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정]
[1] | 1188 |
|
23 |
ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델]
[1] | 920 |
|
22 |
RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect]
[1] | 2865 |
|
21 |
안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield]
[1] | 1930 |
|
20 |
ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도]
[1] | 1827 |
|
19 |
연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술]
[1] | 1875 |
|
18 |
교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode]
[2] | 2647 |
|
17 |
안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수]
[2] | 2728 |
|
16 |
CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss]
[3] | 4390 |
|
15 |
ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
[1] | 1990 |
|
14 |
Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization]
[1] | 2941 |
