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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[279]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다.
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Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성
[1] | 88 |
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Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유
[1] | 649 |
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안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다.
[1] | 452 |
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PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활
[1] | 1215 |
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RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
[1]  | 1195 |
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Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다.
[1] | 1231 |
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RPS를 이용한 SIO2 에칭
[1] | 2408 |
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12 |
remote plasma 데미지 질문
[1] | 14489 |
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11 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 2039 |
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10 |
리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ
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RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의
[1] | 762 |
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Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 1978 |
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7 |
RPSC 관련 질문입니다.
[2] | 4068 |
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6 |
Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이
[1] | 10386 |
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5 |
ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요?
[1] | 24374 |
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4 |
surface wave plasma 에 대해서
[1] | 18556 |
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3 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가
[2] | 24992 |
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2 |
RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이
| 95793 |
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In-flight plasma process
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