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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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OES Actinometry 측정 방법
[1] | 2066 |
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OES를 통한 Radical 생성량 트렌드 파악
[1] | 4064 |
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ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법]
[1] | 4026 |
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OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단]
[1] | 4208 |
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플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy]
[1] | 4508 |
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OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단]
[1] | 4614 |
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OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델]
[1] | 4262 |
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OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산]
[1] | 5040 |
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CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료]
[1] | 4101 |
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Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링]
[2] | 6255 |
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[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자]
[2] | 5114 |
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EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy]
[1] | 4976 |
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Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위]
[3] | 4909 |
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Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정]
[1] | 4306 |
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charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple]
[2] | 3646 |
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Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정]
[2] | 3568 |
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고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격]
[1]  | 4085 |
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I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석]
[1] | 4474 |
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OES 원리에 대해 궁금합니다! [플라즈마 빛의 파장 정보]
[1] | 31764 |
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langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground]
[1] | 4232 |
