Chamber component 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件
2020.12.10 23:26
안녕하세요.
반도체 장비를 생산하는 업체의 연구실 소속 최재혁이라고 합니다.
자사가 생산하는 제품중에 오존 발생기가 있으며 이 생산 제품의 주요 부품에 대해서는
전량 수입에 의존 하고 있습니다.
언급된 주요 부품에 대해서 설명을 드리면 Chamber로 이루어진 발생장치 안에 O2를
주입하고 촉매제와 플라즈마를 이용하여 O3를 발생시키는 역할로서 발생기의 핵심이라
고 할 수 있습니다.
자사 보안 규정에 따라 자세한 내용을 설명드릴 수 없는 점 양해를 부탁 드립니다,
핵심 기술에 대한 위탁 및 공동 연구개발을 계획하고 있습니다.
교수님께서 시간이 되시면 저희 회사 인원과 함께 찾아 뵙고 프레젠테이션을 진행 했으
합니다.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77301 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20496 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57414 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68946 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92988 |
87 | Interlock 화면.mag overtemp의 의미 | 598 |
» | 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] | 977 |
85 | ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] | 5660 |
84 | 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] | 868 |
83 | 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] | 1729 |
82 |
안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출)
[1] ![]() | 2608 |
81 | Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] | 557 |
80 | 알고싶습니다 [1] | 1494 |
79 | Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] | 2873 |
78 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.
[1] ![]() | 1625 |
77 | Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] | 3346 |
76 | Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] | 4034 |
75 | Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] | 3763 |
74 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10632 |
73 | 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] | 866 |
72 |
임피던스 매칭회로
[1] ![]() | 2853 |
71 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1188 |
70 | chamber impedance [1] | 2033 |
69 | 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] | 5145 |
68 | Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] | 6331 |
연구원님, 아쉽지만 저희가 오래 전에 이온나이저 관련 연구를 했었어서, 낡은 지식밖에 남아있지 않습니다. 저희가 별 도움이 되지 못할 것 같습니다. 오존발생기에 대해서는 KIST에 한승희박사님을 추천드립니다. 역시 오래전에 오존발생기에 대해서 깊은 연구를 수행하신 경험이 있으신 것으로 알고 있습니다. 문의, 감사합니다.