Chamber Impedance CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의

2023.11.21 14:54

반가워여러분 조회 수:440

안녕하세요.

 

ETCH 공정 CCP 설비 관련하여 Plasma 변동성 해석 중인데, 아래와 같은 경우 HF/LF Vpp 값이 어떻게 변화하는지 알 수 있을까요?

어떤 원리에 의해서 그런 변화가 발생하는지도 궁금합니다.

 

- 특정 부품(Edge Ring)의 Capacitance 감소 → Impedance 증가 → HF Vpp? LF Vpp? (증가? or 감소?)

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77143
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20426
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57335
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68877
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92901
125 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47956
124 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41287
123 Ground에 대하여 39502
122 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35979
121 matching box에 관한 질문 [1] 29701
120 Arcing [1] 28677
119 esc란? 28107
118 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27658
117 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27227
116 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26504
115 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26237
114 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25590
113 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24907
112 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24784
111 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24776
110 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24640
109 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23349
108 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22954
107 Peak RF Voltage의 의미 22628
106 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22585
쓰기
태그

Boards

XE Login