Matcher matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계]

2010.05.05 13:54

김정욱 조회 수:29818 추천:212

안녕하세요...
저는 반도체 회사에서 근무하는 사람입니다..
matching box 관련하여 질문이 있어서 글을 올립니다..
현업에서 matching box관련 monitoring하는 parameter중 Load position과 Tune position이란 게 있습니다..
여기 사이트에서 load capacitor와 tune capacitor 얘기가 언급되어 아마 capacitor 관련 용어인 것으로 짐작
되어 지는데 정확한 의미와 역할을 알고 싶습니다..
제 나름대로 확인한 바로는 impedance matching은 L nework와 Pi network가 있는데 위에서 언급한 Load
capacitor와 Tune capacitor는 Pi network에서 사용되는 2개의 capacitor 이름인가요?
답변 부탁 드립니다..

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 80647
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21574
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58382
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69993
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95220
29 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24786
28 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27355
27 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41425
26 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20179
25 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21216
24 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity] [3] 26434
» matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 29818
22 Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown] [2] 22364
21 Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] 28774
20 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 24858
19 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20485
18 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적] [2] 19312
17 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태] [2] 26626
16 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22655
15 Ground에 대하여 39717
14 Peak RF Voltage의 의미 22712
13 electrode gap 18030
12 Electrode의 역할에 대해서 궁금합니다. [이차전자의 방출과 스퍼터링] 17425
11 반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하] 12850
10 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. [플라즈마 영향 인자] 13247
쓰기
태그

Boards

XE Login