ESC [질문] 석영 parts로인한 특성 이상

2011.09.04 20:31

coating revolution 조회 수:19852

안녕하세요.

 

큐에스아이라는 회사의 coating field를 담당하는 우병화 사원이라고 합니다.

 

현재 자사 ECR sputter에서 석영 parts 를 세정하여 재사용하고 있습니다.

 

그런데 세정 후에 장착하면 원하는 target(al2o3)의 반사율과 굴절율의 특성 이상이 보이는 현상이 있습니다.

 

세정 잘못으로 인한 반사울 굴절율 값이 상이해는지 경우가 있는지 문의 드립니다.

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77308
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20506
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57415
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68956
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92989
» [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19852
26 석영이 사용되는 이유? [1] 20068
25 플라즈마 matching 20299
24 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20415
23 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21130
22 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21225
21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22281
20 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22587
19 Peak RF Voltage의 의미 22647
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22960
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23352
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24667
15 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24790
14 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24797
13 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24930
12 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25602
11 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26286
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26517
9 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27251
8 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27683
쓰기
태그

Boards

XE Login