ESC ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다.
2020.10.16 19:25
교수님, 안녕하세요.
반도체 회사에서 공정 개발을 하는 연구원입니다.
교수님께 ESC Chuck 의 활용(?) 에 관한 질문을 드리고자 글 남기게 되었습니다.
현재 ICP Coil 을 이용하여 reactant gas 를 radical 로 만들어서 wafer 위에서 반응을 유도하고 있습니다.
하지만, 현재 chamber 조건이 공정상 몇 가지 단점을 갖고 있어 이를 개선하려는 업무를 진행 중 의문이 생겼습니다.
개선을 위한 condition (온도, 압력) 에서는 화학흡착 즉, chemisorpsion 이 되지 않는 결과를 확인하였습니다.
(온도, 압력만 변화. 관련 논문도 확인)
이를 극복하는 방안으로, ESC Chuck 을 사용하여, radical 을 강하게 wafer 로 끌어오면 어떨가 하는데,
가장 큰 고민이, boosted radical 이 wafer 에서 물리적 가속외에 화학적 흡착에도 영향을 줄 수 있다는 근거를 찾기가 어렵습니다.
혹, 교수님께서 관련해서 조언해주실 수 있으시면 업무에 큰 도움이 될 것 같습니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77301 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20498 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57414 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68946 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92988 |
107 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 661 |
106 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 672 |
105 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 766 |
104 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 849 |
103 | RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] | 850 |
102 | 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] | 866 |
101 | 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] | 868 |
100 |
ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다
[1] ![]() | 916 |
99 | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 919 |
98 | 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] | 977 |
97 | 고진공 만드는방법. [1] | 1021 |
96 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1028 |
95 | Plasma Arching [1] | 1101 |
94 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1156 |
93 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1188 |
92 | 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] | 1304 |
91 |
CCP 챔버 접지 질문드립니다.
[1] ![]() | 1352 |
90 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1386 |
89 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1456 |
88 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 1474 |