Matcher ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의
2013.04.22 15:03
안녕하세요~
반도체 회사에 근무하는 엔지니어 입니다.
ICP Type의 장비를 다루는데 RF source가 Top(1.8MHz)/Side(2.0MHz)/Bias(13.56MHz)로 구성되어 있고,
Ar gas로 50mTorr의 압력으로 상승 시킨후에 Top RF부터 인가하게 됩니다. (Top의 Antenna 권선수 n= 4 , Side=2)
궁금한 점은 Top을 plasma ignition시 잘 켜지는데, Side부터 인가하게 되면 reflection이 input값만큼 뜨면서 ignition fault가 발생합니다.
TOP이 권선수가 많아 전자의 속도가 더 빨라서 그런것인가요??
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77207 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20465 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57361 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68900 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92945 |
| 46 | RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] | 7339 |
| 45 | 정전척 isolation 문의 입니다. [1] | 7676 |
| 44 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8670 |
| 43 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8809 |
| » | ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] | 9910 |
| 41 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 10048 |
| 40 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10570 |
| 39 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12817 |
| 38 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13212 |
| 37 | ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] | 14909 |
| 36 | Virtual Matchng | 16860 |
| 35 |
ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
 | 16974 |
| 34 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17365 |
| 33 | electrode gap | 17968 |
| 32 | Faraday shielding & Screening effect | 18371 |
| 31 | 최적의 펌프는? | 18554 |
| 30 | scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] | 19232 |
| 29 | MFC | 19339 |
| 28 | CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 | 19362 |
| 27 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19849 |