안녕하세요. 직장에서 Etcher를 다루고 있습니다.


저희 장비 중 Microwave Plasma를 사용하고, 여기에서 Impedance를 Matching하는 Matcher가 있습니다.


이 Matcher는 아래 도파관이 있고, 그 위에 3개의 Stub가 있는데, 정확하게 Matching을 진행하는 원리가 궁금합니다.


다른 ICP하고는 달리 Matcher가 회로로 되어 있는 것이 아니니 머리속으로 물리적인 현상을 떠오르는데 어려움이 있네요.


원리가 표현된 관련 문헌이나 자료가 있으면 더욱 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77129
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20419
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57329
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68867
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92891
84 알고싶습니다 [1] 1478
83 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1545
82 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1575
81 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1617
80 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1717
79 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1882
78 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1913
» 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1923
76 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1963
75 chamber impedance [1] 2023
74 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2130
73 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2255
72 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2357
71 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2374
70 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2378
69 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2398
68 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2467
67 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2526
66 Si Wafer Broken [2] 2558
65 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2596

Boards


XE Login