Shower head PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다.
2023.07.10 13:26
안녕하세요
항상 많은 도움 감사합니다.
PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다.
CCP TYPE CVD 공정의 경시성 현상에 관한 질문입니다.
일반적으로 경시성은 Shower Head 의 불균일한 Oxidation에 의해서 발생을 하게 되는데
Oxidation이 심하게 되는 부위에서 Oxide 막이 두껍게 형성되어,
Shower Head에서의 열이 방사율이 높아짐에 따라 산화가 많이 된 쪽이 Heat Loss가 더 커질 것으로 판단되는데요
일반적으로 Oxidation의 경우 Center 대비 Edge 쪽에서 많이 이뤄져서 Edge 쪽 방사율에 의해 Edge 막의 Temp가 더 낮을 것으로 예상했으나
실제 현상으로는 Center 쪽 막의 Temp가 더 낮은 현상이 일어납니다.
이론적인 부분과 실제 현상이 매칭이 잘 안되어서 혹시 원인이 무엇일지 궁금해서 의견 어떠신지 질문드립니다.
(Edge 영역으로 열전달이 많이 될 수 있는 매커니즘이 있는지 궁금합니다)
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77156 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20437 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57340 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68884 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92908 |
25 | 플라즈마 matching | 20280 |
24 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20403 |
23 | 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] | 21123 |
22 | ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] | 21210 |
21 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22264 |
20 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22585 |
19 | Peak RF Voltage의 의미 | 22629 |
18 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22954 |
17 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23349 |
16 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 24644 |
15 | ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] | 24778 |
14 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24784 |
13 | Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] | 24907 |
12 | 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? | 25590 |
11 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 26237 |
10 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 26504 |
9 | 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] | 27227 |
8 | 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 | 27658 |
7 | esc란? | 28108 |
6 | Arcing [1] | 28677 |