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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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[문의] Shower Head의 구멍이 일부 막힌 Case의 출력
[1] | 270 |
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PEALD 챔버 세정법
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131 |
RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화
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130 |
HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다.
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ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다
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인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath]
[1] | 696 |
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Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator]
[2] | 717 |
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CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화]
[1] | 839 |
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ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산]
[1] | 810 |
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HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking]
[1] | 721 |
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스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해]
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플라즈마 설비에 대한 질문
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내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링]
[1] | 395 |
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Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어]
[1] | 1683 |
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스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다
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PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher]
[2] | 1262 |
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CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계]
[2] | 916 |
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116 |
RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭]
[2] | 1802 |
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CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선]
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114 |
플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별]
[1] | 957 |
