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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다.
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CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다.
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스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다!
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내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다.
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123 |
스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다
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ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다.
[1] | 99 |
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HE LEAK 과 접촉저항사이 관계
[1] | 113 |
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플라즈마 설비에 대한 질문
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PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다.
[1] | 372 |
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chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의
[1] | 385 |
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117 |
반사파와 유,무효전력 관련 질문
[2] | 387 |
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116 |
CURRENT PATH로 인한 아킹
[1] | 423 |
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Edge ring의 역할 및 원리 질문
[1] | 424 |
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114 |
CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의
[2] | 458 |
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플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문
[1] | 553 |
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112 |
Bais 인가 Cable 위치 관련 문의
[1] | 557 |
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111 |
Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다.
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Interlock 화면.mag overtemp의 의미
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PECVD설비 Matcher 아킹 질문
[2] | 619 |
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RPC CLEAN 시 THD 발생
[1] | 653 |
