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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 26225 |
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matching box에 관한 질문
[1] | 29699 |
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Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22263 |
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Arcing
[1] | 28672 |
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RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24781 |
19 |
CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] | 20399 |
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scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다.
[2] | 19223 |
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공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26492 |
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22583 |
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Ground에 대하여
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Peak RF Voltage의 의미
| 22623 |
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electrode gap
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12 |
Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다.
| 17351 |
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반응기의 면적에 대한 질문
| 12813 |
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플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다.
| 13208 |
9 |
CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여
| 19354 |
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esc란?
| 28101 |
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Virtual Matchng
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6 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
| 35968 |
5 |
최적의 펌프는?
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