안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77156
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20437
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57342
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68884
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92912
85 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5621
84 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 861
83 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1717
82 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2596
81 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 553
80 알고싶습니다 [1] 1478
79 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2853
78 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1617
77 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3299
76 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 4002
75 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3736
74 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10537
73 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 858
72 임피던스 매칭회로 [1] file 2839
71 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1177
70 chamber impedance [1] 2024
69 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5119
68 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6308
67 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3234
66 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3603

Boards


XE Login