현재 반도체 장비 업체에 근무하고 있는 엔지니어입니다.

신입사원 발표 과제로 스퍼터링시 기판 온도 계산하는 과정을 직접 변수를 설정하고 구해보라고 주제를 받았습니다.

대충 타겟 온도를 200도, 냉각 장치를 20도라고 가정하고 타겟은 알루미늄 기판은 유리로 가정해봤는데

여러 열역학 이론을 공부해봤지만 아무래도 기판 온도를 계산하는 법 방향성을 못잡겠습니다..

조언주시면 감사합니다!!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [327] 98060
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23838
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60515
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72380
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 103007
132 PEALD 챔버 세정법 [1] 61
131 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 153
130 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 237
129 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 616
128 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 497
127 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 582
126 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 672
125 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 565
124 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 562
» 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해] [1] 208
122 플라즈마 설비에 대한 질문 267
121 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링] [1] 307
120 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 1254
119 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 162
118 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 1074
117 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 767
116 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1468
115 CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선] [1] file 625
114 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 807
113 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열] [2] 588

Boards


XE Login