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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73582
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133 [문의] Shower Head의 구멍이 일부 막힌 Case의 출력 [1] 76
132 PEALD 챔버 세정법 [1] 341
131 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 449
130 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 514
129 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 824
128 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 631
127 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 665
126 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 772
125 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 727
124 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 657
123 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해] [1] 279
122 플라즈마 설비에 대한 질문 315
121 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링] [1] 361
120 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 1558
119 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 193
118 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 1199
117 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 859
116 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1699
115 CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선] [1] file 697
114 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 898

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