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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다
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인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath]
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Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator]
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CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화]
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ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산]
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HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking]
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스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해]
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플라즈마 설비에 대한 질문
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내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링]
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Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어]
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스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다
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PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher]
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CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계]
[2] | 684 |
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RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭]
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CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선]
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플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별]
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반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열]
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PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산]
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chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성]
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ICP VIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [Plasma breakdown 및 생성]
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