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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type]
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스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
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Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown]
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어]
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전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield]
[1] | 23828 |
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dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity]
[3] | 29111 |
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matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계]
[1] | 32117 |
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Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown]
[2] | 24450 |
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Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시]
[1] | 31398 |
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RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리]
[1] | 27572 |
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CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어]
[1] | 23031 |
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scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적]
[2] | 21382 |
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17 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태]
[2] | 29363 |
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성]
[3] | 24758 |
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Ground에 대하여
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Peak RF Voltage의 의미
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