Matcher 매칭시 Shunt와 Series 값

2021.05.17 15:38

피했습니다 조회 수:1933

안녕하세요. 반도체 장비 기업에 다니고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 CCP 방식을 쓰는 장비를 운용하기 위해서 매칭을 하는데,

 

매칭을 잘? 혹은 효율적으로 빠르게 하기 위해서 처음에 Shunt, Series 값을 지정해 주고 있습니다.

 

그렇게 하래서 하고는 있는데 이 값들이 매칭에 어떤 영향을 끼치게 되는 것인지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77240
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57374
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68903
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92951
42 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47986
41 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35989
40 matching box에 관한 질문 [1] 29708
39 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27671
38 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23350
37 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22586
36 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21216
35 플라즈마 matching 20290
34 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19233
33 Virtual Matchng 16860
32 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10584
31 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9912
30 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8680
29 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7136
28 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6318
27 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5878
26 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5132
25 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 4019
24 임피던스 매칭회로 [1] file 2848
23 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2535

Boards


XE Login