안녕하세요. 전에도 몇번 질문드렸었습니다만,, 반도체 관련회사에서 근무하고 있습니다.

RF (ICP)장비를 다루고 있는데 impedence 위상관련해서 문의 좀 드리려고 합니다.

impedence 매칭은 저항과 위상으로 조정하데..

공정 parameter (Ar pressure , AC power 등)의 변화로 위상이 변화할수 있을까요?

변화된다면 어떤 이유로 변화되는지 조금 자세하게 설명을 듣고 싶습니다..

그리고 정말 죄송한데 smith chart program 을 사용하고 싶은데..도움 받을 site가 있을까요?

검색해서 찾아봐도 알수 없는 site로 이동이 되서...찾기가 어렵습니다만..