안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 111367
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27816
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 65078
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76882
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111137
26 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 1047
25 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 775
24 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 794
23 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 1818
22 ICP VIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [Plasma breakdown 및 생성] [1] file 1693
21 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1236
20 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절] [1] 3217
19 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 16052
18 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1872
17 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절] [1] 6555
16 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [웨이퍼 근방 쉬스 특성, Edge ring] [2] 3315
15 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1996
14 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 4382
13 ESC Cooling gas 관련 [ESC 온도 제어] [1] 4101
12 SI Wafer Broken [Chucking 구동 원리] [2] 3382
11 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4852
10 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap] [1] 2236
9 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 19507
8 ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. file 17423
7 정전척 isolation문의 입니다. [Paschen's law와 절연파괴현상] [1] 8233

Boards


XE Login