Others 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성

2017.12.08 10:10

비엠삼이 조회 수:695

안녕하세요. 

KIC 박동용입니다.

당사는 하드페이싱 관련 업체로 철판의 일면에 내식성, 내마모성이 우수한 합금을 용접공정으로 하드페이싱을 하는 업체입니다.

하드페이싱 후 하드페이싱 된 철판을 일정 형상으로 산소가스를 이용한 플라즈마절단을 수행하고 있습니다.


최근 환경검사중 플라즈마 절단기의 하부 수조에서 시안화물(CN)이 검출되어 검출원인을 조사중에 있습니다.


탄소강 혹은 STS 300계 철판 절단시 대기중의 질소와 철판내 존재하는 탄소가 플라즈마에 의해 결합이 가능한지 문의드립니다.

절단 소재 : SS400, STS 300계 철판

하드페이싱 소재 : C 3~4%, Cr 20~23%인 제품군 및 C 0.1%, Cr 13%, Ni 4% 전후의 제품군


시안화물(CN)의 광촉매 및 플라즈마에 의한 청정화 처리등에 대한 연구자료는 일부 확인을 하였는데,

플라즈마와 관련된 시안화물의 생성(or 결합) 과 관련된 자료는 확인하지 못했습니다.

도움 부탁드립니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76889
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20286
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92716
64 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1194
63 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1194
62 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1182
61 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1175
60 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1143
59 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1138
58 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1133
57 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1122
56 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1098
55 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1092
54 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1079
53 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1071
52 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1057
51 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 993
50 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 899
49 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 897
48 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 881
47 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 854
46 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 801
45 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 763
쓰기
태그

Boards

XE Login