Deposition 질문있습니다 교수님

2020.05.06 15:46

한필섭 조회 수:22208

안녕하세요. 이제 막 반도체 수업을 듣기시작한 학생입니다. 한 질문에 궁금증이 생겨 질문 남기게 되었습니다.

4인치 웨이퍼 기준 100nm 두께로 구리 등 금속 박막을 대량으로 하려면 어떻게 해야될까 인 부분이었습니다.

이때 제 생각으로는 CVD공정이 가장 적합한것이 아닌가? 라고 생각하면서도 각 공정마다 장단점이 있어 헷갈립니다.

PVD의 경우 증착속도가 느리고, ALD의 경우 낮은생산 성 등..

어떠한 공정이 가장 적합한 공정이 될 수 있는지 궁금합니다 감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77145
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20426
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57335
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68878
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92901
24 wafer 전하 소거: 경험 있습니다. 20489
23 plasma cleanning에 관하여.... 20842
22 UBM 스퍼터링 장비로... [1] 20922
21 스퍼터링시 시편두께와 박막두께 [1] 21629
20 펄스바이어스 스퍼터링 답변 21961
19 플라즈마 코팅에 관하여 22103
» 질문있습니다 교수님 [1] 22208
17 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22559
16 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22792
15 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23782
14 Arcing 23870
13 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24204
12 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24694
11 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24897
10 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28981
9 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 29294
8 PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 29790
7 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. file 30107
6 DC Bias Vs Self bias [5] 31605
5 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31693

Boards


XE Login