Others Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다.
2020.06.08 18:29
안녕하십니까 교수님
공정 실습 중 Dechucking 이슈에 대해 궁금증이 있어 이렇게 글을 남깁니다.
제가 확인한 이슈는 dechucking 이후 핀업 진행 시 웨이퍼가 슬라이딩 하는 문제였는데, 해당 이슈에 대해 config값을 (0->5)변경하여 He flow가 되도록 조치했다는 것을 알았습니다.
chucking 과정중 He의 역할이 온도를 낮추는 역할 정도로 알고 있는데, He 가스가 chucking에서 어떤 역할들을 하는지 궁금합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77203 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20464 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57360 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68899 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92945 |
164 | 스퍼터링시 시편두께와 박막두께 [1] | 21642 |
163 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20925 |
162 | plasma cleanning에 관하여.... | 20847 |
161 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20490 |
160 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20443 |
159 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20221 |
158 | DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 | 19721 |
157 | DC SPT 문의 | 19689 |
156 | 플라즈마를 이용한 폐기물 처리 | 19650 |
155 | 플라즈마를 이용한 박막처리 | 19507 |
154 | Full Face Erosion 관련 질문 [2] | 19464 |
153 | H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] | 19448 |
152 | 플라즈마의 환경이용 | 18775 |
151 | 물리적인 sputterting | 18388 |
150 | sputtering | 18308 |
149 | 증착에 대하여... | 18111 |
148 | Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? | 18052 |
147 | Plasma of Bio-Medical Application | 18009 |
146 | 플라즈마 응용분야 | 17870 |
145 | 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 | 17802 |