Deposition SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문

2022.02.17 17:53

씨비디어린이 조회 수:4168

안녕하세요.

CVD 공정 엔지니어로 근무 중인데, 전공과 무관한 업무를 하다보니 막히는 경우가 많은데 교수님께 많은 도움을 받고 있습니다. 감사합니다.

다름이 아니라 SiO2 박막 Depo 후, F 입자를 이용하여 Clean을 진행하는데 박막 밀도가 높을 수록 Clean의 효율이 감소하는 결과를 확인했습니다.

제가 추정하는 이유는 두 가지 인데, 제가 추정하는 이유가 맞는지 교수님의 전문적인 견해가 궁금하여 글을 작성합니다..

 

 1) 막질 밀도가 낮을 수록 막질이 phorous하여 빈 공간으로 Radical이 침투하기 용이하여 반응성 증가

 2) 막질 밀도가 낮을 수록 같은 두께의 박막 내 SiO2 분자수가 적기 때문에 제거해야 할 SiO2 분자수가 적어 Clean 효율 증가

 

항상 감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76981
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20333
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57254
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68801
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92797
144 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 613
143 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1106
142 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1072
141 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 902
140 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2077
» SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4168
138 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2110
137 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1145
136 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3977
135 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1185
134 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1397
133 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 737
132 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2842
131 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 2028
130 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 886
129 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 405
128 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1125
127 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1178
126 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 767
125 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 711
쓰기
태그

Boards

XE Login