안녕하세요~ 화장품 원료에 플라즈마 처리를 한 후 

생산 공정 중 분산력을 높이고 사용감이 좋은 화장품을 생산하고 싶습니다.

실험을 통해 가능성을 파악하고 효과가 좋으면 실제 생산 전 원료 처리를 진행하고자 합니다.

유사한 연구도 있어서 첨부하였습니다.

관련하여 미팅을 통해 구체적으로 논의하고 싶은데 개별적으로 연락 주실 수 있으실까요?

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76971
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20328
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57247
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68798
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92789
» 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 192
163 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 238
162 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 678
161 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1468
160 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 289
159 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 368
158 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 412
157 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 628
156 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1069
155 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 373
154 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 622
153 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28972
152 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 745
151 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2363
150 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 997
149 RF Sputtering Target Issue [2] file 621
148 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1918
147 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 558
146 Polymer Temp Etch [1] 683
145 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 501

Boards


XE Login