Etch DC Bias Vs Self bias

2004.11.05 17:03

이철중 조회 수:31605 추천:374

안녕하세요 김곤호 교수님,

(주)듀폰 포토마스크에 근무하고 있는 이철중입니다.

SETEC에서 진행하는 플라즈마 교육을 수강한 회사원입니다.

강의 내용을 들여다 보다 개념이 정확하지가 않은 것이 있어서 여쭙니다.

저희 회사에도 ICP Dry etcher가 있는데요 ....

모니터를 보다보면 ETCHING 중에 VDC라는 것이 디스플레이가됩니다.

이 전압은 RIE와 ICP POWER를 올리면 같이 올라갑니다.

일반적으로 ETCHER에서 보여주는 이 VDC가 저희가 알고 있는 SELF BIAS와 같은 건지 알고 싶습니다.

만약 그렇다면 장비의 정확히 어디서 부터 어디까지의 전압인지 궁금하고 어떤 방식으로 그 값을 읽어 내는지요.

장비마다 구조가 달라 답변을 주시기 모호하겠지만 일반적인 장비를 기준으로 설명해 주시면 감사하겠습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77147
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20426
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57336
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68882
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92903
24 wafer 전하 소거: 경험 있습니다. 20489
23 plasma cleanning에 관하여.... 20842
22 UBM 스퍼터링 장비로... [1] 20922
21 스퍼터링시 시편두께와 박막두께 [1] 21630
20 펄스바이어스 스퍼터링 답변 21961
19 플라즈마 코팅에 관하여 22103
18 질문있습니다 교수님 [1] 22210
17 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22559
16 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22793
15 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23782
14 Arcing 23870
13 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24204
12 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24694
11 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24897
10 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28981
9 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 29295
8 PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 29790
7 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. file 30107
» DC Bias Vs Self bias [5] 31605
5 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31693

Boards


XE Login