Etch Plasma 식각 test 관련 문의

2021.12.13 16:57

벅바 조회 수:3981

안녕하세요.

 

플라즈마 식각 중량변화 테스트를 O2가스와 NF3,AR(3:1) 비중으로 60분동안 200W전력 조건으로 

 

제품은 불소고무 O-RING 입니다.

 

할 수 있는곳이 있을까요?? 

 

도움 부탁드리겠습니다..

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77156
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20434
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57340
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68884
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92908
124 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1180
123 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1196
122 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1198
121 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1205
120 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1260
119 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1315
118 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1400
117 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1415
116 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1428
115 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1432
114 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1446
113 Ar plasma power/time [1] 1449
112 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1498
111 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1539
110 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1686
109 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1770
108 터보펌프 에러관련 [1] 1773
107 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1827
106 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1908
105 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1943

Boards


XE Login