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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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184 |
플라즈마내에서의 아킹
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183 |
ECR plasma 장비관련 질문입니다.
[2] | 34970 |
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PEALD관련 질문
[1] | 32656 |
181 |
RF에 대하여...
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RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
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DC Bias Vs Self bias
[5] | 31615 |
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[Sputter Forward,Reflect Power]
[1] | 31112 |
177 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
| 30127 |
176 |
PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건
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OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다.
[1] | 28985 |
174 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
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H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24704 |
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Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 24214 |
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Arcing
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170 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23791 |
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Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22810 |
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Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22563 |
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질문있습니다 교수님
[1] | 22220 |
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플라즈마 코팅에 관하여
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펄스바이어스 스퍼터링 답변
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