kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수

2009.11.17 16:06

김곤호 조회 수:68860 추천:217



안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77113
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20409
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57319
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68860
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92879
124 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1142
123 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2538
122 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 904
121 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2314
120 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1398
119 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1100
118 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1259
117 질문있습니다 교수님 [1] 22206
116 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1763
115 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6759
114 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3686
113 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3036
112 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 550
111 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 2007
110 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3364
109 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1202
108 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2896
107 PEALD관련 질문 [1] 32653
106 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1088
105 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 736
쓰기
태그

Boards

XE Login