안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76893
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20286
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92717
84 Plasma etcher particle 원인 [1] 3013
83 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 425
82 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 695
81 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5927
80 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2332
79 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1144
78 ICP와 CCP의 차이 [3] 12538
77 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1883
76 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2671
75 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3552
74 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6442
73 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 8623
72 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6281
71 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 637
70 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1427
69 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5384
68 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6099
67 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3970
66 Ar plasma power/time [1] 1446
65 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17556

Boards


XE Login