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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
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144 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 741
143 ICP 후 변색 질문 743
142 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 745
141 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 750
140 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 770
139 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 851
138 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 858
137 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 900
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135 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 917
134 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 1019
133 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1079
132 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1093
131 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1099
130 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1110
129 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1124
128 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1142
127 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1147
126 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1147
125 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1168

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