안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102135
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24549
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61205
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73279
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105502
194 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 504
193 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 505
192 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 463
191 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 436
190 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 733
189 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 462
188 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 347
187 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 322
186 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 440
185 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 4865
184 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 417
183 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 607
182 플라즈마 식각 커스핑 식각량 220
181 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 511
180 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 387
179 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 581
178 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 613
177 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 464
176 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 419
175 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 559

Boards


XE Login