이렇게 생각해 보세요.

플라즈마는 전자와 이온, 그리고 가스입자들로 구성되어 있습니다. 전자와 이온은 그 질량비가 수천배가 되므로 서로 다른 움직임을 하고 있습니다.

전원에서 전달되는 RF의 주파수가 높으면 당연히 가벼운 전자의 거동에 영향을 미치게 되고, 주파수가 낮으면 이온의 거동에 영향을 미칩니다. 전자의 거동은 플라즈마 밀도를 높이고, 이온의 거동은 이온에너지의 크기에 영향을 미칩니다. 

(단, 여기서 좀 더 정밀한 주파수 효과를 보기위해서는 전자플라즈마 주파수 와 이온플라즈마 주파수와 비교합니다) 

따라서 위의 조건에 따른 플라즈마 밀도와 조사 이온의 에너지 조절 능력은 매우 다른 특성을 가지므로, 공정 대상에 따라 적합한 장비 운전 조건이 선택됨을 이해할 수 있습니다. 

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