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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응]
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안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력]
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Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련 [Sheath 전위 형성]
[3] | 3512 |
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플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE]
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플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발]
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타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산]
[1] | 514 |
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엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석]
[1] | 1438 |
127 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
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안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지]
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접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경]
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Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp]
[2] | 1341 |
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[RIE] reactice, non-reactice ion의 역할 [Dissociation과 Ar plasma]
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O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation]
[1] | 1105 |
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Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution]
[1] | 2637 |
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Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
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Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어]
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Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity]
[1] | 1492 |
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질문있습니다 교수님 [Deposition]
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CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information]
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안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power]
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